Новый оборонный заказ. Стратегии
Новый оборонный заказ. Стратегии
РУС |  ENG
Новый оборонный заказ. Стратегии

НТО АО, Научное и технологическое оборудование

Единственная российская компания, производящая оборудование, способное покрыть полный цикл создания полупроводникового наноприбора: от выращивания гетероструктуры до проведения ключевых операций планарного цикла. Разрабатывает и произ­водит широкий спектр вакуумного оборудования, которое отвечает всем современным требованиям полупроводнико­вой технологии (под маркой SemiTEq®). Имеется конструкторский отдел, специализирующийся на разработке вакуумного технологического оборудования

 

Адрес:

194156, Санкт-Петербург, пр. Энгельса 27

Контакты:

тел.: +7 (812) 601 06 05, +7 (812) 313 54 51

факс: +7 (812) 313 54 29

sales@semiteq.ru

http://www.semiteq.ru/

 

ОТРАСЛИ: нанотехнологии, IT-технологии, машиностроение
 
 
ОСНОВНЫЕ НАПРАВЛЕНИЯ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ: 
 
 

разработка и производство систем молекулярно­-лучевой эпитаксии (МЛЭ) для полупроводниковых материалов А3N, А3В5 и широкозонных материалов А2В6, а также оборудова­ния для проведения основных операций планарного цикла

 
установки молекулярно-лучевой эпитаксии

 – STE75 универсальная компактная установка молекулярно-лучевой эпитаксии
– STE3N установка для высокотемпературной молекулярно-лучевой аммиачной эпитаксии нитридов III группы
 – STE35 трехкамерная установка молекулярно-лучевой эпитаксии для роста полупроводниковых материалов A3B5 и A3N
 – STE3526 двухреакторная кластерная система молекулярно-лучевой эпитаксии для роста гибридных наногетероструктур A3B5/А2В6
 

оборудование планарных технологий SemiTEq включает в себя 3 основные продуктовые линейки:

 – системы физического осаждения (PVD) для высококачественных тонкопленочных композиций: электронно-лучевое и магнетронное распыление в сверхвысоком вакууме
 – установки плазмохимического травления и осаждения (ICPCVD/PECVD): процессы плазмохимического травления и осаждения диэлектриков (SiNx, SiO2 и т. д.) в комбинированной плазме емкостного и индуктивного разряда
 – установки для проведения процессов быстрой температурной обработки и отжига (RTP & RTA установки): проведение процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в инертной среде и термической обработки в инертной и управляемой газовой среде, кислороде и другой нетоксичной среде
 – установки электронно-лучевого напыления
 

установки магнетронного распыления:

 – установки плазмохимического травления и осаждения
 – установки быстрой термической обработки и отжига
 

создание структур высокого качества в рамках проведения разработок и производства современной электронной компонентной базы

Статьи о компании

Импортозамещение вакуумного технологического оборудования для разработки и производства ЭКБ

  Электронная компонентная база (ЭКБ) определяет тактико-технические требования и формирует облик современных и перспективных радиоэлектронных средств.      При этом основными поставщиками специального технологического оборудования (СТО) для создания ЭКБ (относящегося к продукции двойного назначения) на российском рынке на протяжении долгих лет были американские и европейские компании. Поставки жестко контролируются зарубежными государствами, а само оборудование всегда…
Читать далее