Единственная российская компания, производящая оборудование, способное покрыть полный цикл создания полупроводникового наноприбора: от выращивания гетероструктуры до проведения ключевых операций планарного цикла. Разрабатывает и производит широкий спектр вакуумного оборудования, которое отвечает всем современным требованиям полупроводниковой технологии (под маркой SemiTEq®). Имеется конструкторский отдел, специализирующийся на разработке вакуумного технологического оборудования
Адрес:
194156, Санкт-Петербург, пр. Энгельса 27
Контакты:
тел.: +7 (812) 601 06 05, +7 (812) 313 54 51
факс: +7 (812) 313 54 29
sales@semiteq.ru
ОТРАСЛИ: нанотехнологии, IT-технологии, машиностроение
ОСНОВНЫЕ НАПРАВЛЕНИЯ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ:
разработка и производство систем молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) для полупроводниковых материалов А3N, А3В5 и широкозонных материалов А2В6, а также оборудования для проведения основных операций планарного цикла
установки молекулярно-лучевой эпитаксии
– STE75 универсальная компактная установка молекулярно-лучевой эпитаксии
– STE3N установка для высокотемпературной молекулярно-лучевой аммиачной эпитаксии нитридов III группы
– STE35 трехкамерная установка молекулярно-лучевой эпитаксии для роста полупроводниковых материалов A3B5 и A3N
– STE3526 двухреакторная кластерная система молекулярно-лучевой эпитаксии для роста гибридных наногетероструктур A3B5/А2В6
оборудование планарных технологий SemiTEq включает в себя 3 основные продуктовые линейки:
– системы физического осаждения (PVD) для высококачественных тонкопленочных композиций: электронно-лучевое и магнетронное распыление в сверхвысоком вакууме
– установки плазмохимического травления и осаждения (ICPCVD/PECVD): процессы плазмохимического травления и осаждения диэлектриков (SiNx, SiO2 и т. д.) в комбинированной плазме емкостного и индуктивного разряда
– установки для проведения процессов быстрой температурной обработки и отжига (RTP & RTA установки): проведение процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в инертной среде и термической обработки в инертной и управляемой газовой среде, кислороде и другой нетоксичной среде
– установки электронно-лучевого напыления
установки магнетронного распыления:
– установки плазмохимического травления и осаждения
– установки быстрой термической обработки и отжига
создание структур высокого качества в рамках проведения разработок и производства современной электронной компонентной базы